Die aktuelle Ausgabe der Fachzeitschrift Nature Materials beschäftigt sich mit dem aktuellen Stand der Großserienfertigung von Graphen und Graphen-basierten Bauteilen. Die Beherrschung dieser sowie die Integration in elektronische Bauteile ist derzeit der entscheidende Schritt für einen kommerziellen Erfolg dieses neuartigen Materials...
Querschnitt durch einen Silizium-CMOS-Logik Chip mit Graphen-Sensor.
In einem Kommentar dieser Ausgabe diskutieren Daniel Neumaier (AMO), Stephan Pindl (Infineon) und Max Lemme (AMO, RWTH), wie Graphen erfolgreich in eine konventionelle Siliziumfertigungslinie integriert werden kann und welche Verarbeitungsschritte weiter kritisch und entscheidend bleiben. Die erfolgreiche 3D-Integration von Graphen in Silizium-Fertigungslinien ist besonders vielversprechend für Graphen-basierte Sensorbauteile, wie Magnetfeld-, Gas- oder Lichtsensoren, die auf einer konventioneller Silizium-CMOS-Logik hergestellt werden können. Solche Hybridsysteme werden die Vorteile beider Materialien nutzen und dürften eine wichtige Rolle im Bereich More-than-Moore spielen.
Die Integration von Graphen und Graphen-basierten Bauelementen in Silizium gehört zu den Forschungsschwerpunkten der AMO und dem Aachener Graphene and 2D Materials Center
Den vollständigen Artikel finden Sie online in der aktuellen Ausgabe von Nature Materials.
D. Neumaier, S. Pindl und M. Lemme „Graphen in Halbleiterfertigungslinien integrieren“ Nature Nature Materials 2019; DOI: 10.1038/s41563-019-0359-7.
Die vollständige Ausgabe ist online HIER verfügbar.
Die Forschungsarbeiten wurden von der Europäischen Kommission im Rahmen des Projekts Graphene Flagship (785219) finanziert.